創(chuàng)傷性口炎

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創(chuàng)傷性口炎　　

疾病概述

創(chuàng)傷性口炎是由機(jī)械性、化學(xué)性、物理性等因素造成口腔粘膜損傷所致的非特異性急、慢性炎癥。　　

疾病原因

1、機(jī)械性因素

這是創(chuàng)傷性口炎最多見的原因，常形成創(chuàng)傷性潰瘍。按刺激持續(xù)時(shí)間的不同，可分為持久性及非持久性刺激因素。持久性刺激因素包括齲齒破壞后的殘冠、殘根、尖銳的牙尖，經(jīng)磨損后的牙齒銳緣，不良修復(fù)體的卡環(huán)、尖銳邊緣，過(guò)長(zhǎng)的基板，舌系帶過(guò)短時(shí)與新生下頜乳切牙的摩擦等均是長(zhǎng)期存留在口腔內(nèi)可以引起慢性創(chuàng)傷性損害的因素。非持久性機(jī)械刺激包括硬、脆食物(如油炸或烘烤過(guò)的較硬食物)、硬橡皮制成的奶嘴、咀嚼不慎時(shí)的咬傷、牙刷太舊不整齊的刷毛、刷牙用力不當(dāng)、口腔科醫(yī)師使用器械操作不當(dāng)、或其他外傷等均可對(duì)口腔粘膜造成急性損傷。

2、化學(xué)因素

常見的化學(xué)物質(zhì)為具有腐蝕性的強(qiáng)酸、強(qiáng)堿，口腔治療用藥酚、硝酸銀、三氧化二砷等接觸了口腔粘膜。臨床上多見于誤入口腔或使用不當(dāng)，有時(shí)則為自傷性。

3、物理性因素

口腔粘膜的熱損傷并不多見，偶因飲料、茶水或食物過(guò)燙時(shí)引起粘膜燙傷。超過(guò)一定劑量放射線全身或頭面部照射，可引起全身和口腔組織損傷，造成急性放射病和/或放射性口炎，主要變化是炎癥。戰(zhàn)時(shí)發(fā)生在核武器爆炸后，和平時(shí)期多因惡性腫瘤的放射治療或因輻射事故引起?！　?/p>

疾病分類

口腔科　　

治療方案

1、首先應(yīng)去除局部刺激因素，如拔除殘根、殘冠，拆除不合適的修復(fù)體等。潰瘍用2％甲紫液涂布或貼敷抗生素藥膜。含漱劑可用0.05％～0.2％洗必泰液或其他消炎止痛液。此外，可用口內(nèi)紫外線燈局部照射以消炎止痛。

2、慢性潰瘍經(jīng)去除刺激因素后仍不愈合時(shí)，應(yīng)作活檢?！　?/p>

安全提示

1、家庭護(hù)理：

（1）去除創(chuàng)傷刺激因素，如糾正不良習(xí)慣、磨改過(guò)銳的切緣、牙尖等。

（2）局部涂抹1%龍膽紫等消毒抗菌藥。

（3）如舌系帶反復(fù)潰瘍已形成瘢痕的，應(yīng)帶患兒到口腔科行舌系帶矯正術(shù)。

2、嬰兒舌系帶潰瘍：是由于新萌出的乳牙切嵴銳利，或同時(shí)有舌系帶過(guò)短，以致兩者反復(fù)摩擦形成潰瘍，久之進(jìn)一步形成較硬的纖維瘢痕，影響舌的運(yùn)動(dòng)。

3、貝氏口瘡：有的嬰兒經(jīng)常吮吸拇指、異物（如玩具等），反復(fù)多次后可在粘膜較薄的上頜翼鉤處形成對(duì)稱的圓形或橢圓形潰瘍?！　?/p>